Vakuumbeschichtung

Vakuumbeschichtung

Vakuumbeschichtung mittels
PECVD – Anlage PORTA 900

Lange Zeit wurden Vakuumverfahren zur Beschichtung als die Oberflächenverfahren der Zukunft gehandelt, mit denen die klassischen galvanotechnischen Methoden vom Markt verdrängt werden würden. Dies ist für viele Bereiche sicher zutreffend und mancher Betrieb verabschiedet sich aufgrund von Umweltauflagen langsam aus der Galvanik.

Häufig sind Vakuumbeschichtungsverfahren kostenintensive als etwaige Vergleichstechnologien, was auf die Galvanik in der Regel nicht zutrifft. Wenn man alle Kosten wie Stromaufwendungen, Umweltauflagen usw. zusammen kalkuliert, sind die kompletten Kosten auf das Bauteil bezogen normalerweise höher. Allerdings muss man immer ein Einzelfall auch die Qualität der Beschichtungen sehr gut bewerten, damit man nicht unnötigerweise zwei unterschiedliche Sachen vergleicht.

Die Plasma Electronic GmbH beschäftigt sich seit 1982 mit der Herstellung und dem Vertrieb von Anlagen der Vakuumbeschichtung. Dies waren am Anfang Niederdruck-Plasmaanlagen. Dazu kamen mit den Jahren PVD- und PEALD Anlagen. Die auch eine Vakuumbeschichtung vornehmen. Insbesondere auf dem Gebiet der Abscheidung von diamantartigen Kohlenstoffschichten mit PECVD bestehen umfangreiche Erfahrungen und eine breite Palette auf dem Markt eingeführter Beschichtungsanlagen. Das Unternehmen arbeitet weltweit mit Kunden in den Bereichen Elektro- und Elektronikindustrie, Automobilindustrie
und deren Zulieferer, chemische Industrie, Kunststoffindustrie, Medizintechnik und Telekommunikation zusammen.

Die Vorteile der Vakuumbeschichtung liegen auf der Hand. Man arbeitet im Niederdruck mit den Gasen, die man ausschliesslich auch für die Beschichtung ausgewählt hat. Störenden Einfluss wie bei Atmosphärendruck-Anlagen treten hier nicht auf. Die Qualität der Anwendungen, die durch eine Vakuumbeschichtung ermöglicht werden, ist hier deutlich höher anzusetzen.

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